噴砂機(jī)VD 是通過氣相物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)在基材表面沉積固態(tài)薄膜的一種工藝方法。CVD 技術(shù)發(fā)展較早，在上 世紀(jì) 60 年代已應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具的涂層處理，并且在硬質(zhì)合金可轉(zhuǎn)位刀具上得到了較為廣泛的應(yīng)用。在 CVD 工藝中，氣相沉積所需要金屬源的制備相對(duì)容易，可進(jìn)行 TiBN、TiB2、TiN、TiC、TiCN、 、Al2O3 等單層及多元多層復(fù)合涂層，其涂層與基體結(jié)合強(qiáng)度較高，薄膜的厚度達(dá) 7～9μ m，CVD 涂層具有較好的 耐磨性。據(jù)統(tǒng)計(jì)，美國在八十年代中后期有 85%的硬質(zhì)合金工具采用了涂層處理，其中 CVD 涂層占 99%； 在九十年代的中期，CVD 涂層硬質(zhì)合金刀具仍占到了 80%以上。CVD 涂層技術(shù)擁有許多的優(yōu)點(diǎn)：1.涂層源 的制備比較容易。2.鍍膜的均勻性比較好。3.成膜粒子的能量非常低，因此鍍膜的內(nèi)應(yīng)力很低。4.能夠得到 比較厚的鍍膜。5.鍍膜的耐磨性非常好。但是 CVD 涂層技術(shù)也有一些缺陷：

1 噴砂機(jī)工藝的處理溫度較高，刀具 材料抗彎強(qiáng)度會(huì)產(chǎn)生下降。2.CVD 涂層技術(shù)排放的廢氣可造成嚴(yán)重的環(huán)境污染。因此，從九十年代中期以 來，高溫 CVD 涂層技術(shù)的發(fā)展、應(yīng)用受到了制約。八十年代末期，Kruup Widia 研發(fā)的低溫化學(xué)氣相沉積 技術(shù)（PCVD）已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn)應(yīng)用，該技術(shù)的工藝處理溫度已下降至 450℃至 650℃，能夠有效的抑制η 相 產(chǎn)生，能夠進(jìn)行 TiN、TiCN、TiC 等金屬涂層，應(yīng)用于螺紋刀具、銑刀、鉆頭等，但是 PCVD 技術(shù)在刀具 涂層領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用目前仍然不是十分廣泛。 引起 CVD 涂層技術(shù)出現(xiàn)實(shí)質(zhì)性突破的是 80 年代末期產(chǎn)生的 MT—CVD 技術(shù)（中溫化學(xué)氣相沉積技術(shù)） ， 該技術(shù)的機(jī)理與高溫 CVD 涂層技術(shù)是相同的，但它的涂覆溫度僅為 700℃到 900℃，而且正向著更低的溫 度和更高的真空度方向發(fā)展。MT—CVD 涂層技術(shù)突出的優(yōu)點(diǎn)有沉積的速度快、涂層的厚度均勻、涂層的 附著力較強(qiáng)、內(nèi)部的殘余應(yīng)力較小。但 MT—CVD 涂層技術(shù)的首要缺點(diǎn)是產(chǎn)生嚴(yán)重的環(huán)境污染問題，其次， 它的涂層內(nèi)部產(chǎn)生拉應(yīng)力，容易產(chǎn)生裂紋。新型的 MT-CVD 技術(shù)是將含 C、N 的有機(jī)物乙腈（CH3CN）為 主要的反應(yīng)氣體混合 TiCL4、H2、N2 在 700℃到 900℃溫度下產(chǎn)生分解、發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生 TiCN 的一 種新的方法，該方法得到的涂層為致密纖維狀結(jié)晶形態(tài)，涂層的厚度可達(dá)到 8-10μ m。該涂層結(jié)構(gòu)為為致 密纖維狀結(jié)晶， 因此擁有很高的耐磨損性， 很高的抗熱震性和韌性。 再通過高溫化學(xué)氣相沉積技術(shù) （HT-CVD 技術(shù)）在表層鍍層上沉積 Al2O3 和 TiN 等抗氧化性能好、高溫性能好、與加工材料的親和力較小的材料。 高溫化學(xué)氣相沉積技術(shù)適用于高速度、高溫度、大負(fù)荷的干式切削條件，刀具的壽命比一般的涂層刀片延 長了一倍。 我國 CVD 涂層技術(shù)的研究開始于七十年代初， 由于該項(xiàng)技術(shù)的專用性強(qiáng)， 并于八十年代中期達(dá)到實(shí)用化， 并與國際 噴砂機(jī)CVD 工藝技術(shù)水平相當(dāng)；隨后十多年里國內(nèi)和國外的發(fā)展類似，比較緩慢；我國 PCVD 技術(shù)的 研究開始于九十年代初，該技術(shù)目前主要用于模具涂層，在刀具領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用，還不是十分廣泛。從總體 上講，我國的 CVD 技術(shù)與國際先進(jìn)水平保持同步。